La nanostructuration \u00e0 grande \u00e9chelle et \u00e0 faible co\u00fbt des mat\u00e9riaux pr\u00e9sente un int\u00e9r\u00eat consid\u00e9rable pour les dispositifs opto\u00e9lectroniques. La lithographie par nanoimpression est apparue ces derni\u00e8res ann\u00e9es comme une strat\u00e9gie de nanofabrication rapide et ayant une r\u00e9solution comparable \u00e0 celle de la lithographie \u00e9lectronique. Ici, nous utilisons des nanocubes m\u00e9talliques support\u00e9s comme mod\u00e8le pour obtenir des informations fondamentales sur l’empreinte des nanoparticules. Nous d\u00e9couvrons le r\u00f4le majeur jou\u00e9 par la couche de tensioactif pi\u00e9g\u00e9e entre les nanocubes et le substrat, et mesurons son \u00e9paisseur avec une r\u00e9solution subnanom\u00e9trique en utilisant la spectroscopie \u00e0 gap-plasmon comme plateforme de m\u00e9trologie. Cela nous permet de quantifier les interactions de van der Waals responsables du frottement s’opposant au mouvement des nanocubes, et nous constatons qu’elles sont presque en accord quantitatif avec la tra\u00een\u00e9e de Stokes agissant sur les nanocubes lors de la nanoimpression, qui est estim\u00e9e avec un mod\u00e8le simplifi\u00e9 de m\u00e9canique des fluides. Ces r\u00e9sultats r\u00e9v\u00e8lent qu’une \u00e9paisseur minimale de tensioactif est n\u00e9cessaire, agissant comme une couche d’espacement att\u00e9nuant les forces de van der Waals entre les nanocubes et le substrat. \u00c0 la lumi\u00e8re de ces r\u00e9sultats, nous proposons une m\u00e9thode g\u00e9n\u00e9rale de pr\u00e9paration de r\u00e9sine pour obtenir une mobilit\u00e9 optimale des nanoparticules et montrons l’assemblage de grilles de nanocubes Ag et Au imprimables, qui pourraient permettre la fabrication d’\u00e9lectrodes transparentes \u00e0 faible co\u00fbt de haute qualit\u00e9 lors de l’\u00e9pitaxie des nanocubes.<\/p>\n