Le CINaM mis à l’honneur par les éditeurs de J. Vac. Sci. Techno. A
Les sources d’azote sont critiques dans le plasma-ALD du TiN.
Leur nature (NH3 ou N2), leur dilution, la puissance du plasma ainsi que les traitements thermiques modifient significativement les propriétés et la conductivité du film.
Lien: https://avs.scitation.org/topic/collections/editors-pick?SeriesKey=jva
Titre de l’article: Conductive TiN thin films grown by plasma-enhanced atomic layer deposition: Effects of N-sources and thermal treatments
Auteurs : Clémence Badie, Héloïse Tissot, Beniamino Sciacca, Maïssa K.Barr, Julien Bachmann, Christophe Vallée, Gaël Gautier, Thomas Defforge, Vincent Astié, Jean-Manuel Decams, Mikhael Bechelany, Lionel Santinacci*
Ref : J. Vac. Sci. Techno. A. 41 (3), 032401 (2023)