SPIXY

Spintronique et Epitaxie

Responsable : L Michez

Présentation

L'équipe "Spintronique et Epitaxie"

Nos activités de recherche sont centrées sur l’élaboration de matériaux en couches minces et de nanostructures à base de métaux, de silicium et de germanium, ces deux derniers élèments étant les matériaux semi-conducteurs les plus utilisés dans l’électronique.

Notre objectif est l’étude des propriétés physiques originales que possèdent de tels objets et leur intégration dans les dispositifs de l’électronique actuelle. Nous nous intéressons plus particulièrement aux matériaux et aux hétérostructures pour l’électronique de spin -la spintronique-, une branche de l’électronique exploitant les phénomènes liés au spin de l’électron.

Des effets originaux liés au transport électronique dépendant en spin peuvent émerger de  :

  • la réduction à l’échelle nanométrique des matériaux,
  • l’association de matériaux dans une hétérostructure.

Les interfaces jouent souvent un rôle clé dans ces structures. Ainsi, notre activité est principalement orientée vers l’étude de l’hétéroépitaxie, les caractérisations structurales et chimiques des nanostructures et des interfaces présentes et l’étude des propriétés physiques en particulier électriques et magnétiques. Notre fil conducteur est de mettre en évidence les interactions entre structure et propriétés physiques.

L’élaboration et la croissance des matériaux sont principalement effectuées par épitaxie par jets moléculaires (MBE), technique dans laquelle les aspects cinétiques et thermodynamiques, les modes de croissance épitaxiale, les états des contraintes dans les films doivent être considérés. Les techniques de caractérisation principalement utilisées sont le RHEED (suivi in situ des dépôts sous vide), l’XRD, TEM, AFM, SQUID, VSM, etc.

Nous disposons d'un système MBE composés de 5 chambres sous ultra-vide (UHV) connectées entre elles via un tube de transfert sous UHV type "mécatrans" de 4 mètres de long.

(clic to enlarge) Système de croissance MBE : trois chambres d'élaboration connectées entre elles et avec un sas d'introduction et une chambre de préparation via un tube de transfert sous ultra-vide "mecatrans"

Les thématiques associées sont :

Mn5Ge3

Le développement de matériaux appropriés pour l’injection polarisée en spin dans les semi-conducteurs du groupe IV constitue une étape clé vers la pleine intégration des dispositifs spintroniques dans la technologie des semi-conducteurs. Cette approche se présente comme l’alternative la plus prometteuse aux semiconducteurs magnétiques dilués (DMS) à base de Si ou Ge dont les températures de Curie (TC) restent très inférieures à 300K.

Nous avons montré que l’alliage intermétallique ferromagnétique (FM) Mn5Ge3 peut être synthétisé en épitaxie directement sur Ge(111) avec une faible densité de dislocations (<104.cm-2, cf. figure 1). L’efficacité de l’injection d’un courant polarisé en spin par effet tunnel à travers la barrière de Schottky formée à l’interface entre un métal ferromagnétique et un semiconducteur repose sur une très grande qualité cristalline de l’hétérostructure et une interface abrupte. Nous avons donc développé différentes techniques de croissance (diffusives et non-diffusives) pour synthétiser par épitaxie par jets moléculaires (MBE) l’hétérostructure Mn5Ge3/Ge. L’étude des propriétés structurales par RHEED, DRX, TEM et AFM révèle une excellente qualité cristalline et une interface abrupte à l’échelle atomique, rendant ce système propice à l’injection électrique.

La température de Curie limitée du Mn5Ge3 (296 K) est un frein à son utilisation dans des dispositifs. Nous avons montré que l’incorporation d’une faible quantité de C permet de maintenir l’ordre ferromagnétique jusqu’à 430 K. Les résultats de nos études expérimentales montrent pour la première fois que les atomes de C se situent dans les sites octaédriques de la maille de Mn5Ge3 comme le montre la figure 2.

Par des caractérisations magnétiques complémentaires (SQUID, VSM, FMR, RMN, MFM…) et des études de micromagnétisme par OOMMF, nous avons montré que ce matériau présente une anisotropie uniaxiale modérée conduisant à la présence d’une épaisseur critique au-dessus de laquelle le film se structure en domaines magnétiques en ruban avec une aimantation hors-du-plan (figure 3).

Nous avons déterminé la hauteur et la largeur de la barrière de Schottky et montré que ces valeurs peuvent être modulées par δ-dopage du Ge près de l’interface Mn5Ge3/Ge. Fort de ces résultats, nous travaillons avec l’AIST (Tsukuba, Japon) afin de réaliser une injection polarisée en spin dans Ge dans des structures latérales et des vannes de spin verticales.

Matériaux 2D 5
Fig. 1 : Film mince de Mn5Ge3 en épitaxie sur un substrat de Ge(111) / Mn5Ge3 thin film grown epitaxially on Ge(111) substrate.
stem

Fig.2 : (a) Image STEM en vue planaire d’une couche de Mn5Ge3 dopés en C. Encadré : Cellule unitaire de la maille hexagonale de Mn5Ge3 vue selon l’axe c. L'atome C est placé dans le site octaédrique formé par les atomes de manganèse de type II.
(b), (c) et (d) Cartographies élémentaires obtenues par EELS indiquant la positions des atomes de Mn, Ge et C.
MFM

Fig. 3 : Image MFM à la surface d’un film mince de 50 nm de Mn5Ge3C0.5 révélant la structure en domaines magnétiques.

Mn5Si3

Les matériaux antiferromagnétiques (AF) sont magnétiques à l'échelle atomique et non magnétiques à l'échelle macroscopique. Il en résulte une robustesse aux champs magnétiques parasites et une absence de champs de fuite qui, en addition à une dynamique rapide (dans les THz), les rend uniques pour résoudre d'importants problèmes dans le domaine des TIC d'aujourd'hui (stockage d’information, cybersécurité, vitesse d’opérations des dispositifs… ).

Parmi eux, le composé Mn5Si3 est particulièrement intéressant car présentant une transition de phase métamagnétique entre deux structures de spins ordonnées chirale en dessous de 65K et colinéaire au-dessus (figure 4). Fait remarquable, son équivalent isostructural Mn5Si3Cx est ferromagnétique. Le composé Mn5Si3 se présente donc comme une structure modèle pour identifier et exploiter de nouveaux mécanismes de transport dans les matériaux antiferromagnétiques (AF) complexes.

MFM

Fig. 4 : Mn5Si3 est un matériau présentant deux phases anti-ferromagnétiques, non-colinéaire et colinéaire.

DMS et boites quantiques

Les semi-conducteurs dilués (DMS) obtenus par incorporation d’un élément magnétique dans la matrice semi-conductrice permettraient d’allier stockage et manipulation de l’information dans les filières actuelles de la microélectronique. Nous nous intéressons plus particulièrement à la croissance et aux propriétés magnétiques de DMS à base de Ge et Mn.

Les premières étapes de croissance de Mn sur Ge(001) ont montré la présence de sites d’adsorption privilégiés pour les atomes de Mn qui réagissent avec le Ge pour former un alliage (voir figure 5) et une très forte diffusion de surface, même pour des températures aussi faibles que 80°C. Ces résultats corroborent les nombreuses études faisant état de la difficulté d'obtenir des films minces de DMS Ge(1-x)Mnx en codéposant Mn et Ge sur le Ge(001). Les températures de Curie (TC) restent limitées par la faible solubilité de Mn dans Ge (TC <150K pour une concentration maximale de 2-3% de Mn dans les films minces).

first_stage_Mn-Ge_growth

Fig. 5 : première étape de croissance de Mn sur Ge(001) : des ilôts se forment entre les rangées de dimères du Ge en consommant du Ge des rangées adjacentes.

Interfaces hybrides organique/inorganique

Les interfaces hybrides organiques/inorganiques pourraient ouvrir la voie à de nouveaux dispositifs électroniques multifonctionnels conçus chimiquement, en particulier dans le domaine de la spintronique où, par exemple, la polarisation interfaciale du spin peut être ajustée par des interactions chimiques et des modifications de surface. Dans ce travail pionnier, nous avons étudié la formation de monocouches auto-assemblées sur la surface de Mn5Ge3.

Les premières étapes ont ainsi montré la faisabilité de la fonctionalisation de la surface de Mn5Ge3 par des molécules d'octanethiol (figure 6).

Mn5Ge3_OT

Fig. 6 : fonctionalisation de la surface de Mn5Ge3 par une SAM d'oactanethiol.

Responsable

Chercheurs

Enseignants-chercheurs

Post-doctorants

Doctorants

Publications

2023

Competitive actions of MnSi in the epitaxial growth of Mn5Si3 thin films on Si(111)

Ismaïla Kounta, Helena Reichlova, Dominik Kriegner, Rafael Lopes Seeger, Antonin Bad'Ura, Miina Leiviska, Amine Boussadi, Vasile Heresanu, Sylvain Bertaina, Matthieu Petit, Eva Schmoranzerova, Libor Smejkal, Jairo Sinova, Tomas Jungwirth, Vincent Baltz, Sebastian T B Goennenwein, Lisa Michez

Physical Review Materials 7:024416 (2023)10.1103/PhysRevMaterials.7.024416

2022

Tuning the Mn5Ge3 and Mn11Ge8 thin films phase formation on Ge(111) via growth process

Mohamed-Amine Guerboukha, Matthieu Petit, Aurélie Spiesser, Alain Portavoce, Omar Abbes, Vasile Heresanu, Sylvain Bertaina, Cyril Coudreau, Lisa Michez

Thin Solid Films 761:139523 (2022)10.1016/j.tsf.2022.139523

Unveiling the atomic position of C in Mn5Ge3Cx thin films

L.-A. Michez, M. Petit, V. Heresanu, V. Le Thanh, E. Prestat, F. d'Acapito, Q. Ramasse, F. Boscherini, P. Pochet, M. Jamet

Physical Review Materials 6:074404 (2022)10.1103/PhysRevMaterials.6.074404

XPS modeling of GaN/GaAs nanostructure grown by the droplet epitaxy technique

Guy Tsamo, Guillaume Monier, Philip Hoggan, Christine Robert-Goumet, Matthieu Petit, Alain Ranguis, Luc Bideux

Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena 261 (2022)10.1016/j.elspec.2022.147257

2020

Magnetic anisotropy of one-dimensional Co nanostructures

Michel Daher Mansour, Romain Parret, F. Cheynis, Matthieu Petit, Fadi Choueikani, Lisa Michez, Laurence Masson

Physical Review B 102:155403 (2020)10.1103/PhysRevB.102.155403

Selective modification of the unquenched orbital moment of manganese introduced by carbon dopant in epitaxial Mn5Ge3C0.2/Ge(111) films

R. Kalvig, E. Jedryka, M. Wojcik, Matthieu Petit, L. Michez

Physical Review B: Condensed Matter (1978-1997) 101 (2020)10.1103/PhysRevB.101.094401

Electrolyte-gated-organic field effect transistors functionalized by lipid monolayers with tunable pH sensitivity for sensor applications

Tin Phan Nguy, Ryoma Hayakawa, Volkan Kilinc, Matthieu Petit, Yemineni S L V Narayana, Masayoshi Higuchi, Jean-Manuel Raimundo, Anne Charrier, Yutaka Wakayama

Applied Physics Express 13:011005 (2020)10.7567/1882-0786/ab5322

2019

Stable operation of water-gated organic field-effect transistor depending on channel flatness, electrode metals and surface treatment

Tin Phan Nguy, Ryoma Hayakawa, Volkan Kilinc, Matthieu Petit, Jean-Manuel Raimundo, Anne Charrier, Yutaka Wakayama

Japanese Journal of Applied Physics 58:SDDH02 (2019)10.7567/1347-4065/ab09d2

Step flow growth of Mn5Ge3 films on Ge(111) at room temperature

Matthieu Petit, Amine Boussadi, Vasile Heresanu, Alain Ranguis, Lisa Michez

Applied Surface Science 480:529-536 (2019)10.1016/j.apsusc.2019.01.164

2018

Hyperfine fields and anisotropy of the orbital moment in epitaxial Mn5Ge3 films studied by Mn55 NMR

R. Kalvig, E. Jedryka, M. Wojcik, G. Allodi, R. de Renzi, Matthieu Petit, Lisa Michez

Physical Review B: Condensed Matter and Materials Physics (1998-2015) 97:174428-174428 (2018)10.1103/PhysRevB.97.174428

From the very first stages of Mn deposition on Ge(001) to phase segregation

Sion F Olive Mendez, Matthieu Petit, Alain Ranguis, Vinh Le Thanh, Lisa Michez

Crystal Growth & Design 18:5124-5129 (2018)10.1021/acs.cgd.8b00558

Investigations of the Anodic Porous Etching of n-InP in HCl by Atomic Absorption and X-ray Photoelectron Spectroscopies

Lionel Santinacci, Muriel Bouttemy, Matthieu Petit, Anne-Marie Goncalves, Nathalie Simon, Jackie Vigneron, Arnaud Etcheberry

Journal of The Electrochemical Society 165:3131-3137 (2018)10.1149/2.0181804jes

Thiol-functionalization of Mn5Ge3 thin films

Marta K Schütz, Matthieu Petit, Lisa Michez, Alain Ranguis, Guillaume Monier, Christine Robert-Goumet, Jean-Manuel Raimundo

Applied Surface Science 451:191-197 (2018)10.1016/j.apsusc.2018.04.231

2017

Study of manganese germanides formation and their magnetic response

Omar Abbes, Alain Portavoce, Christophe Girardeaux, Lisa Michez, Vinh Le Thanh

Advanced Materials Letters 8:600-604 (2017)

Atomic layer deposition of HfO2 for integration into three-dimensional metal–insulator–metal devices

Loïc Assaud, Kristina Pitzschel, Maïssa K. S. Barr, Matthieu Petit, Guillaume Monier, Margrit Hanbücken, Lionel Santinacci

Applied physics. A, Materials science & processing 123:768 (2017)10.1007/s00339-017-1379-2

Ferromagnetic resonance in Mn 5 Ge 3 epitaxial films with weak stripe domain structure

R Kalvig, E Jedryka, P. Aleshkevych, M Wojcik, W Bednarski, Matthieu Petit, L. Michez

Journal of Physics D: Applied Physics 50:125001 (2017)10.1088/1361-6463/aa5ce5

2016

Synthesis and Study of Stable and Size-Controlled ZnO-SiO2 Quantum Dots: Application as a Humidity Sensor

Mohamed Aymen Mahjoub, Guillaume Monier, Christine Robert-Goumet, François Reveret, Mosaab Echabaane, Damien Chaudanson, Matthieu Petit, Luc Bideux, Bernard Gruzza

Journal of Physical Chemistry C 120:11652-11662 (2016)10.1021/acs.jpcc.6b00135

An introduction to photocatalysis through methylene blue photodegradation

Matthieu Petit, Lisa Michez, Jean-Manuel Raimundo, Tuhiti Malinowski, Philippe Dumas

European Journal of Physics 37:065808 (2016)10.1088/0143-0807/37/6/065808

Electrical and optical measurements of the bandgap energy of a light-emitting diode

Matthieu Petit, Lisa Michez, Jean-Manuel Raimundo, Philippe Dumas

Physics Education 51:025003 (2016)10.1088/0031-9120/51/2/025003

Mn5Ge3C0.6/Ge(111) Schottky contacts tuned by a n-type ultra-shallow doping layer

Matthieu Petit, Ryoma Hayakawa, Yutaka Wakayama, Vinh Le Thanh, Lisa Michez

Journal of Physics D: Applied Physics 49:355101 (2016)10.1088/0022-3727/49/35/355101

Equipements

Équipement ultra-vide pour des applications en spintronique

Vue d'ensemble du système MBE composé des 5 chambres sous vide connectées au tube de transfert.

Système de croissance sous ultra-vide (UHV), dédié aux hétérostructures pour des applications en spintronique (figure 7).

L’installation est composée de :

  • une chambre d’introduction équipée d’un carrousel de stockage (molyblocks)
  • trois chambres MBE de croissance :
    • MBE-1 → cellules d'évaporation de Si, Ge, C, Al, P, Mn
    • MBE-2 → évaporateur par faisceau d'électrons (Ru, V...), cellules d'évaporation classiques et hautes températures (Au, Cr, Co, Mn, Sn, etc)
    • OMBE → molécules organiques
  • une chambre de préparation de surfaces (décapage ionique)
  • un tube de transfert sous UHV de 4 mètres de long connectant les 5 chambres sus-mentionnées

Schéma du système MBE

La taille maximale des échantillons est de 5 cm / 2” en diamètre

Les portes échantillons chauffant peuvent monter jusqu’à des températures de 1100°C.

Nous disposons également :

  • d'une valise sous ultravide de transfert d'échantillons,
  • d'un adaptateur porte-échantillon molyblock / "raquette" Omicron.

 

Les cellules d’évaporations suivantes sont installées à demeure dans les chambres :

  • cellules Knudsen : Ge, Mn, Sn, Al, Cr, Co, Au, molécules  organiques
  • cellules dites de dopage : Si, C, GaP (P) (SUSI-D, SUKO-D et DECO-D, MBE-Komponenten)
  • évaporateur par faisceau d'électrons (Ru, V selon charge dans le creuset, marque Ferrotec)

Valise de transfert d'échantillons sous vide connectée au sas d'introduction.

Les processus de croissance peuvent être caractérisés in situ par :

  • microbalance à quartz
  • RHEED (Reflection high-energy electron diffraction)
  • AES (Auger electrons spectroscopy)

Collaborations

National

  • IM2NP, Marseille
  • CEA Orsay
  • SPINTEC, Grenoble
  • Institut Néel, Grenoble
  • Institut Pascal, Clermont-Ferrand
  • C2N, Paris

International

  • IFPAN, Varsovie, Pologne
  • AIST, Tsukuba (つくば市), Japon
  • Université de Stuttgart, Stuttgart, Allemagne
  • Université de Manchester, UK

Proposition de thése

sujet 2023 : "Epitaxial growth and characterizations of chiral antiferromagnetic thin films"

PhD_ED352_Michez_Guillemard_2023