Gravure Accueil Nanofab Lithographie Dépôt Gravure Métrologie Gravure (fabrication soustractive) Gravure du silicium par une attaque alcaline Exemples de gravure anisotrope du Si par RIE Gravure par attaque chimique (isotrope et anisotrope) Gravure par plasma réactif (RIE) Gaz disponibles: CHF3 SF6 O2 Matériaux : Si SiO2 Si3N4 TiO2 WO3 Gravure de métaux par plasma couplé inductivement (ICP) Usinage ionique (Gravure par faisceau d’argon)