Nanofabrication
Dépôt, lithographie et gravure assistés par faisceau de particules chargées
Exemples de réalisations
Structures plasmoniques, collaboration LP3 – CINaM
Réseaux de nanostructures d’or obtenus par litho électronique
Stations de Nanofabrication par faisceaux d'ions et d’électrons focalisés
Système PIONEER (RAITH GMBH)
- Source FEG (cathode chaude à émission de champ)
- Colonne électronique (100eV à 30 keV)
- Taille de sonde <2nm
- Détecteurs d’électrons rétrodiffusés et secondaires in-lens et out-lens
- Platine interférométrique 5cmx5cm (précision <20nm)
- Module tilt 0 à 90°
- Editeur GDSII
Système d’injection de gaz (Orsay Physics)
6 lignes d’injection
- Platine
- Tungstène
- Oxyde de silicium
- Fluorure de xenon
- Vapeur d’eau
- Purge
Equipement FIB-SEM (Helios 5 UC ThermoFisher)
Colonne électronique Elstar avec la technologie UC+
Colonne FIB faisceau d'ions Ga+ focalisé Tomahawk HT avec un Fast Beam Blanker
3 systèmes d’injection de gaz (Pt, W, C)
NanoManipulateur EasyLift EX
EDS Oxford Ultim Max 100mm²
Système de lithographie RAITH Elphy MultiBeam
Le système Helios 5 UC a été acqui et installé en 2025. Il a été cofinancé par l’État et les collectivités territoriales (Région Sud et Ville de Marseille) dans le cadre du Contrat de Plan État-Région (CPER 2021-2027) et du Programme et Équipement Prioritaire de Recherche (PEPR électronique).
Le système PIONEER a été obtenu en 2012 dans le cadre d’un projet FEDER avec un soutien de : Région PACA, Conseil Général des Bouches du Rhône, Aix-Marseille Université, C’Nano PACA.