Nanofabrication

Dépôt, lithographie et gravure assistés par faisceau de particules chargées

Exemples de réalisations

Structures plasmoniques, collaboration LP3 – CINaM

Réseaux de nanostructures d’or obtenus par litho électronique

Dépôt des nano-objets

Réseau de pointes de tungstène et Nanofil de platine connecté

Dépôt local assisté par faisceau d'ions focalisés (FIBID) et par faisceau d'électrons (EBID)

Dépôt de nano-plots de tungstène (EBID)

Stations de Nanofabrication par faisceaux d'ions et d’électrons focalisés

Système PIONEER (RAITH GMBH)

Source FEG (cathode chaude à émission de champ)
Colonne électronique (100eV à 30 keV)
Taille de sonde <2nm
Détecteurs d’électrons rétrodiffusés et secondaires in-lens et out-lens
Platine interférométrique 5cmx5cm (précision <20nm)
Module tilt 0 à 90°
Editeur GDSII

Système d’injection de gaz (Orsay Physics)

6 lignes d’injection

Platine
Tungstène
Oxyde de silicium
Fluorure de xenon
Vapeur d’eau
Purge

Microscope Electronique à Balayage (JEOL 5910) / FIB (Canion31+ OrsayPhysics)

Source filament de tungstène
Colonne électronique (500eV à 30 keV)
Taille de sonde <20nm
Détecteur d’électrons secondaires out-lens
Module tilt 0 à 90°
Editeur GDSII

Colonne FIB faisceau d'ions Ga+ focalisé (Orsay Physics)

Système d’injection de gaz (Orsay Physics)

5 lignes d’injection (Pt, W, SiO2, C)

Système de mesures électriques in situ

La station a été obtenue en 2012 dans le cadre d’un projet FEDER avec un soutien de : Région PACA, Conseil Général des Bouches du Rhône, Aix-Marseille Université, C’Nano PACA.