Nanofabrication
Dépôt, lithographie et gravure assistés par faisceau de particules chargées
Exemples de réalisations
Structures plasmoniques, collaboration LP3 – CINaM
Réseaux de nanostructures d’or obtenus par litho électronique
Dépôt des nano-objets
Réseau de pointes de tungstène et Nanofil de platine connecté
Stations de Nanofabrication par faisceaux d'ions et d’électrons focalisés
Système PIONEER (RAITH GMBH)
- Source FEG (cathode chaude à émission de champ)
- Colonne électronique (100eV à 30 keV)
- Taille de sonde <2nm
- Détecteurs d’électrons rétrodiffusés et secondaires in-lens et out-lens
- Platine interférométrique 5cmx5cm (précision <20nm)
- Module tilt 0 à 90°
- Editeur GDSII
Système d’injection de gaz (Orsay Physics)
6 lignes d’injection
- Platine
- Tungstène
- Oxyde de silicium
- Fluorure de xenon
- Vapeur d’eau
- Purge
Microscope Electronique à Balayage (JEOL 5910) / FIB (Canion31+ OrsayPhysics)
- Source filament de tungstène
- Colonne électronique (500eV à 30 keV)
- Taille de sonde <20nm
- Détecteur d’électrons secondaires out-lens
- Module tilt 0 à 90°
- Editeur GDSII
Colonne FIB faisceau d'ions Ga+ focalisé (Orsay Physics)
Système d’injection de gaz (Orsay Physics)
5 lignes d’injection (Pt, W, SiO2, C)
Système de mesures électriques in situ
La station a été obtenue en 2012 dans le cadre d’un projet FEDER avec un soutien de : Région PACA, Conseil Général des Bouches du Rhône, Aix-Marseille Université, C’Nano PACA.
