Lithographie

Lignes de métal
(largeur < 20 nm)

Nanoplots de métal Cr/Au
(diamètre < 50 nm)

Alignement de deux niveaux par lithographie électronique

• Source FEG (cathode chaude à émission de champ)
• Colonne électronique (100eV à 30 keV)
• Taille de sonde <2nm
• Résolution <20nm
• Platine interférométrique 5cmx5cm (précision <20nm)
• Ré-alignement <20nm

• Lithographie UV
• Lumière filtrée 365nm
• Résolution 0,8µm
• Taille de wafers jusqu’à 100mm
• Ré-alignement <1µm

• Lithographie UV sans masque
• Lumière 365nm
• Résolution 1 µm
• Taille de wafers jusqu’à 100mm
• Ré-alignement 1 µm