Lithographie Accueil Nanofab Lithographie Dépôt Gravure Métrologie Lithographies optique et assistée par faisceau d'électrons Lignes de métal (largeur < 20 nm) Nanoplots de métal Cr/Au (diamètre < 50 nm) Alignement de deux niveaux par lithographie électronique Système Pioneer Source FEG (cathode chaude à émission de champ) Colonne électronique (100eV à 30 keV) Taille de sonde <2nm Résolution <20nm Platine interférométrique 5cmx5cm (précision <20nm) Ré-alignement <20nm Aligneur de masques MJB4 (Süss Microtec) Lithographie UV Lumière filtrée 365nm Résolution 0,8µm Taille de wafers jusqu’à 100mm Ré-alignement <1µm Lithographie sans masques µMLA (Heidelberg) Lithographie UV sans masque Lumière 365nm Résolution 1 µm Taille de wafers jusqu’à 100mm Ré-alignement 1 µm